APPARATUS FOR CLEANING MASK CAPABLE OF DECIDING EXCHANGE CYCLE OF CLEANING SOLUTION
The present invention relates to a mask cleaning apparatus capable of determining the replacement period of a cleaning solution in real time. According to the present invention, the mask cleaning apparatus includes a monitoring unit which is connected to a drain line for collecting the cleaning solu...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a mask cleaning apparatus capable of determining the replacement period of a cleaning solution in real time. According to the present invention, the mask cleaning apparatus includes a monitoring unit which is connected to a drain line for collecting the cleaning solution used for cleaning a mask and quantitatively measures a foreign material concentration among the collected cleaning solutions through a Raman spectrum. The monitoring unit determines the replacement period of the cleaning solution through a Raman shift level of the Raman spectrum measured from the collected cleaning solution to the Raman spectrum measured from an initial cleaning solution, thereby improving the efficiency of the maintenance and management of the cleaning solution used for cleaning the mask.
본 발명은 실시간으로 세정액의 교환 주기의 판정이 가능한 마스크 세정 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 마스크의 세정에 사용된 세정액을 회수하는 드레인 라인에 연결되어 회수되는 세정액 중 이물 농도를 라만 스펙트럼을 통해 정량적으로 측정하는 모니터링부가 구비되며, 상기 모니터링부는 초기 세정액으로부터 측정된 라만 스펙트럼 대비 회수된 세정액으로부터 측정된 라만 스텍프럼의 라만 쉬프트 수준을 통해 상기 세정액의 교환 주기를 판정함으로써 마스크의 세정에 사용되는 세정액의 유지 및 관리의 효율성을 향상시키는 것이 가능하다. |
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