Apparatus for Processing Substrate

A substrate processing apparatus of the present invention comprises: a chamber for providing an enclosed inner space; a fan filter unit installed in an upper part of the chamber, and providing a high humidity downflow to the inner space of the chamber; a substrate support member installed in the inner space of the chamber, and having a substrate laid thereon; and an atmosphere formation unit positioned between the fan filter unit and the substrate support member, and supplying low humidity gas to the substrate. The atmosphere formation unit includes: a support member; and a nozzle provided in an end unit of the support member, and radially spraying the low humidity gas. The substrate processing apparatus can prevent irregular air flow formation in a process chamber by minimizing a collision with the downflow through the fan filter unit. 본 발명의 기판 처리 장치는 밀폐된 내부 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 상부에 설치되고, 상기 챔버의 내부공간으로 고습도의 다운 플로우 기류를 제공하는 팬필터유닛; 상기 챔버의 내부공간에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지부재; 및 상기 팬필터유닛과 상기 기판 지지부재 사이로 위치되고, 상기 기판상으로 저습도의 가스를 공급하는 분위기 형성 유닛을 포함하되; 상기 분위기 형성 유닛은 지지 부재; 및 상기 지지 부재의 단부에 제공되고, 저습도 가스를 방사형으로 분사하는 노즐을 포함할 수 있다.