임프린트용의 템플릿 제조 장치

실시형태에 따른 임프린트용의 템플릿 제조 장치(1)는, 주면(主面)을 갖는 기체(基體; 11)와, 주면 상에 설치되고, 주면과 반대측의 단부면을 가지며, 요철 패턴이 그 단부면에 형성된 볼록부(12)를 포함하는 템플릿(W)을, 볼록부(12)를 하방으로 향하게 하여 지지하는 지지부(3)와, 지지부(3) 상의 템플릿(W)의 하방에 설치되고, 발액재(撥液材)를 기화시키는 기화부(5)와, 지지부(3) 상의 템플릿(W)의 하방에 설치되고, 기화된 발액재가 지지부(3) 상의 템플릿(W)의 볼록부(12)의 측면에 부착되는 것을 허락하고, 요철...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KASHIWAGI HIROYUKI, HATANO MASAYUKI, NAKAMURA SATOSHI, DEMURA KENSUKE, KANG CHEN, GANACHEV IVAN PETROV, MATSUSHIMA DAISUKE
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR SHAPING OR JOINING OF PLASTICS TRANSPORTING WORKING OF PLASTICS WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL
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