High definition heater

장치, 그 예로써, 적어도 하나의 기능 영역을 구비한 베이스 기능층을 포함하는, 반도체 공정 장비(equiment)용(用) 히터가 제시된다. 기판은 그 베이스 기능층에 고정되고, 튜닝층은 그 베이스 기능층의 반대측에서 그 기판에 고정된다. 그 튜닝층은 복수 개의 영역들을 포함하는데, 그 영역들은 그 베이스 기능층의 영역들보다 수가 많으며, 그 튜닝층은 그 베이스 기능층보다 낮은 파워를 갖는다. 게다가, 예컨대 척과 같은 구성요소는 그 기판의 반대측에서 그 튜닝층에 고정된다. 그 기판은 그 베이스 기능층으로부터 필요 파워량을 분산시키...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	STEINHAUSER LOUIS P, NOSRATI MOHAMMAD, LINDLEY JACOB ROBERT, SWANSON CAL THOMAS, BOLDT ALLEN NORMAN, SMITH KEVIN ROBERT, ZHANG SANHONG, GRIMARD DENNIS STANLEY, SCHMIDT PHILIP STEVEN, PTASIENSKI KEVIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC HEATING ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	장치, 그 예로써, 적어도 하나의 기능 영역을 구비한 베이스 기능층을 포함하는, 반도체 공정 장비(equiment)용(用) 히터가 제시된다. 기판은 그 베이스 기능층에 고정되고, 튜닝층은 그 베이스 기능층의 반대측에서 그 기판에 고정된다. 그 튜닝층은 복수 개의 영역들을 포함하는데, 그 영역들은 그 베이스 기능층의 영역들보다 수가 많으며, 그 튜닝층은 그 베이스 기능층보다 낮은 파워를 갖는다. 게다가, 예컨대 척과 같은 구성요소는 그 기판의 반대측에서 그 튜닝층에 고정된다. 그 기판은 그 베이스 기능층으로부터 필요 파워량을 분산시키는 열전도율을 갖는다. A thermal system includes a base member, a two-phase fluid, a tuning heater, and a chuck. The base member includes at least one fluid passageway. The two-phase fluid is disposed within the fluid passageway. A pressure of the two-phase fluid is controlled such that the two-phase fluid provides at least one of heating and cooling to the base member. The tuning heater is secured to the base member. The chuck is secured to the tuning heater opposite to the base member. The tuning heater includes a plurality of zones to fine tune a heat distribution provided by the base member to the chuck.