DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 표시 영역 및 비표시 영역을 포함하는 제 1 기판, 상기 표시 영역 상에 배치되며 제 1 방향으로 연장된 게이트 라인 및 상기 비표시 영역 상에 배치된 게이트 패드, 상기 표시 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배치된 데이터 라인, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인의 교차지점에 배치된 박막 트랜지스터, 상기 게이트 패드 상에 배치된 단차 패턴 및 상기 박막 트랜지스터 상에 배치된 제 1 보호막과 상기 단차 패턴 및 게이트 패드 상에 배치된 제 2 보호막을 포...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LI XIN XING, LEE, NAM WOOK, MUN, SUNG JIN, JEONG, KI HUN, JIN, HYEONG JUN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 표시 영역 및 비표시 영역을 포함하는 제 1 기판, 상기 표시 영역 상에 배치되며 제 1 방향으로 연장된 게이트 라인 및 상기 비표시 영역 상에 배치된 게이트 패드, 상기 표시 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배치된 데이터 라인, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인의 교차지점에 배치된 박막 트랜지스터, 상기 게이트 패드 상에 배치된 단차 패턴 및 상기 박막 트랜지스터 상에 배치된 제 1 보호막과 상기 단차 패턴 및 게이트 패드 상에 배치된 제 2 보호막을 포함하는 보호막; 을 포함하며, 상기 제 2 보호막은 상기 제 1 보호막의 절반 이하의 두께를 갖는다. A display device includes: a first substrate including a display area and a non-display area; a gate line in the display area and a gate pad in the non-display area, the gate line extending in a first direction; a data line in the display area, the data line extending in a second direction intersecting the first direction; a thin film transistor at an intersection point among the gate line and the data line; a step-difference pattern on the gate pad; and a protective layer including a first protective layer on the thin film transistor and a second protective layer on the step-difference pattern and the gate pad. The second protective layer has a height less than a height of the first protective layer.