Substrate process apparatus
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 이용하여 기판에 미리 설정된 패턴의 증착, 식각 등의 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160) 및 기판(10)의 얼라인시 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)...
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| Hauptverfasser: | , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 이용하여 기판에 미리 설정된 패턴의 증착, 식각 등의 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160) 및 기판(10)의 얼라인시 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 자력을 이용하여 저감하는 진동저감부(300)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다. |
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