PHOTO TRANSISTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

본 발명의 일 실시예에 따른 광 트랜지스터는 제1 도전형의 기판, 상기 기판 상에 위치하는 제1 에피층, 상기 제1 에피층 상에 위치하는 제2 도전형의 베이스층, 상기 베이스층의 가장자리를 둘러싸고 위치하는 제1 도전형의 둘레층, 상기 베이스층의 일부에 위치하는 제1 도전형의 이미터층, 상기 베이스층과 접촉하는 베이스 전극, 상기 이미터층과 접촉하는 이미터 전극을 포함한다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: GOH, SUNG MIN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명의 일 실시예에 따른 광 트랜지스터는 제1 도전형의 기판, 상기 기판 상에 위치하는 제1 에피층, 상기 제1 에피층 상에 위치하는 제2 도전형의 베이스층, 상기 베이스층의 가장자리를 둘러싸고 위치하는 제1 도전형의 둘레층, 상기 베이스층의 일부에 위치하는 제1 도전형의 이미터층, 상기 베이스층과 접촉하는 베이스 전극, 상기 이미터층과 접촉하는 이미터 전극을 포함한다.