A method and system for measuring plasma density using capacitance and a prove therefor

As a process using plasma is expanded not only in semiconductors, displays, and solar cells but also in bio-fields using atmospheric plasma, the accurate diagnosis of the plasma is required. A method directly using a probe and a method using plasma emission light which are existing plasma diagnosis methods have definite limitations, respectively. Also, there is not an appropriate method for diagnosing atmospheric plasma when a research or process applying the atmospheric plasma is expanded. The present invention overcomes the limitations of the existing plasma diagnosis methods and is a diagnostic method suitable for atmospheric plasma diagnosis. The present invention provides a method for measuring plasma density by measuring a variation amount of capacitance varied by the plasma by applying a potential or voltage with a specific frequency between at least two electrodes which are electrically insulated from each other. 반도체, 디스플레이, 태양전지뿐만 아니라 대기압 플라즈마를 이용한 바이오 분야 등에서 플라즈마를 이용한 공정이 확대 되는 만큼 플라즈마에 대한 정확한 진단이 요구되고 있다. 기존 플라즈마 진단 방법인 직접 탐침을 이용한 방법과 플라즈마 방출광을 이용한 방법은 각각의 명확한 한계를 가지고 있다. 또한 대기압 플라즈마를 응용한 연구나 공정이 확대 되는 시점에 대기압 플라즈마를 진단하기 위한 적절한 방법이 존재하지 않는다. 본 발명은 기존 플라즈마 진단 방법의 한계를 극복하고 대기압 플라즈마 진단에도 적합한 진단 방법이다.