VARIABLE RADIUS MIRROR DICHROIC BEAM SPLITTER MODULE FOR EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE

적어도 하나의 가변 반경 미러를 포함하는 레이저 생성 플라즈마 극자외 레이저 소스. 적어도 하나의 가변 반경 미러는 사전-펄스 초점면으로부터의 규정된 거리에서의 메인 펄스의 빔 직경을 조절하기 위한 것이고, 사전-펄스는 액적을 타겟 액적으로 조사하고, 메인 펄스는 타겟 액적을 플라즈마 상태로 조사하여 극자외 방사선을 생성한다. A laser produced plasma extreme ultraviolet laser source comprising at least one variable radius mirror. The at leas...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHAFGANS ALEXANDER ANTHONY, PURVIS MICHAEL ANTHONY, RAFAC ROBERT JAY, ZHANG KEVIN WEIMIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS PHYSICS X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	적어도 하나의 가변 반경 미러를 포함하는 레이저 생성 플라즈마 극자외 레이저 소스. 적어도 하나의 가변 반경 미러는 사전-펄스 초점면으로부터의 규정된 거리에서의 메인 펄스의 빔 직경을 조절하기 위한 것이고, 사전-펄스는 액적을 타겟 액적으로 조사하고, 메인 펄스는 타겟 액적을 플라즈마 상태로 조사하여 극자외 방사선을 생성한다. A laser produced plasma extreme ultraviolet laser source comprising at least one variable radius mirror. The at least one variable radius mirror to adjust a beam diameter of a main pulse at a specified distance from a pre-pulse focal plane, where the pre-pulse radiates droplets into target droplets and the main pulse radiates the target droplets into a plasma state to generate the extreme ultraviolet radiation.