LIGHTHOUSE SCANNER WITH A ROTATING MIRROR AND A CIRCULAR RING TARGET

본 발명은 레이저 어블레이션을 적용하는 코팅 프로세스들에 적합한 스캐닝 배열체 및 방법을 도입한다. 배열체는 장기간의 산업 프로세스들에 적합하다. 배열체는 환형 형태를 갖는 타겟(15)을 포함한다. 레이저 빔 방향(12)은 환형 타겟(15)의 중심 축을 따라 로케이팅되는 회전 미러(13)에 의해 제어된다. 스캐닝 라인은, 미러(13)가 회전할 때 내부 타겟 표면을 따라 원형으로 회전할 것이다. 레이저 빔들(12)의 초점은 일정한 스팟 크기를 보장하기 위해 내부 타겟 표면 상에 로케이팅되도록 배열될 수 있다. 링-형태, 원통-형상 또...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LIIMATAINEN JARI, PIIRTO JARKKO, KEKKONEN VILLE, CLARKE FERGUS
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 레이저 어블레이션을 적용하는 코팅 프로세스들에 적합한 스캐닝 배열체 및 방법을 도입한다. 배열체는 장기간의 산업 프로세스들에 적합하다. 배열체는 환형 형태를 갖는 타겟(15)을 포함한다. 레이저 빔 방향(12)은 환형 타겟(15)의 중심 축을 따라 로케이팅되는 회전 미러(13)에 의해 제어된다. 스캐닝 라인은, 미러(13)가 회전할 때 내부 타겟 표면을 따라 원형으로 회전할 것이다. 레이저 빔들(12)의 초점은 일정한 스팟 크기를 보장하기 위해 내부 타겟 표면 상에 로케이팅되도록 배열될 수 있다. 링-형태, 원통-형상 또는 원뿔대-형상 타겟(15)이 사용될 수 있다. 타겟의 내부 표면은 이에 따라, 코팅될 기판(17) 쪽으로 어블레이팅된 재료(16)의 릴리즈 방향을 제어하기 위해 테이퍼링될 수 있다. The present invention introduces a scanning arrangement and a method suitable for coating processes applying laser ablation. The arrangement is suited to prolonged, industrial processes. The arrangement comprises a target, which has an annular form. The laser beam direction is controlled by a rotating mirror locating along the center axis of the annular target. The scanning line will rotate circularly along the inner target surface when the mirror rotates. The focal point of the laser beams may be arranged to locate on the inner target surface to ensure a constant spot size. A ring-formed, a cylinder-shaped or a cut conical-shaped target may be used. The inner surface of the target may thus be tapered in order to control the release direction of the ablated material towards a substrate to be coated.