Methode of forming electrode pattern using transcription

A method of forming a transfer-type electrode pattern according to the present invention comprises a step of forming an electrode protection layer on a release film; a step of forming an electrode seed layer on the electrode protection layer, a step of forming a photoresist pattern of a predetermined shape on the electrode seed layer; a step of forming an electrode on the electrode seed layer between the photoresist patterns using an electroplating method; a step of removing the photoresist patterns; a step of patterning the electrode seed layer by removing the electrode seed layer in the lower region of the photoresist pattern; a step of patterning the electrode protection layer by removing the electrode protection layer in the lower region of the photoresist pattern, a step of transferring the electrode, the patterned electrode seed layer and the patterned electrode protection layer to a resin substrate, and a step of removing the release film. A gap between the electrode protection layer patterns can be kept constant. 본 발명의 전사형 전극 패턴 형성방법은, 이형필름 위에 전극 보호층을 형성하는 단계와, 상기 전극 보호층 위에 전극 시드층을 형성하는 단계와, 상기 전극 시드층에 소정의 형상의 포토리지스트 패턴을 형성하는 단계와, 전기도금법을 이용하여 상기 포토리지스트 패턴 사이의 전극 시드층 위에 전극을 형성하는 단계와, 상기 포토리지스트 패턴을 제거하는 단계와, 상기 포토리지스트 패턴 하부 영역의 전극 시드층을 제거하여 전극 시드층을 패터닝하는 단계와, 상기 포토리지스트 패턴 하부 영역의 전극 보호층을 제거하여 전극 보호층을 패터닝하는 단계와, 상기 전극, 패터닝된 전극 시드층 및 패터닝된 전극 보호층을 레진 기판에 전사하는 단계와, 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함한다.