PROJECTION SYSTEM

리소그래피 장치 용 투영 시스템은 광로; 복수 개의 센서; 하나 이상의 액츄에이터; 및 제어기를 포함한다. 광로는 입력 방사선 빔을 수광하고 출력 방사선 빔을 기판 상에 투영하여 이미지를 형성하도록 동작가능하다. 이러한 광로는 복수 개의 광학 요소를 포함하고, 복수 개의 광학 요소는 적어도 두 개의 광학 요소의 제 1 세트 및 적어도 하나의 광학 요소의 제 2 세트를 포함한다. 각각의 센서는 복수 개의 광학 요소 중 하나와 연관되고 해당 광학 요소의 위치를 결정하도록 동작가능하다. 각각의 액츄에이터는 광학 요소의 제 2 세트 중 하나와 연관되고 해당 광학 요소를 조절하도록 동작가능하다. 광학 요소의 제 1 세트의 위치에 의해 초래되는 광수차 및/또는 시선 오차를 적어도 부분적으로 보상하기 위해서, 제어기는 하나 이상의 액츄에이터를 사용하여, 광학 요소의 제 1 세트의 결정된 위치에 따라 광학 요소의 제 2 세트를 조절하도록 동작가능하다. A projection system (PS1) for a lithographic apparatus comprises: an optical path (100); a plurality of sensors (S1-S4); one or more actuators (A1-A4); and a controller (CN). The optical path is operable to receive an input radiation beam (Bin) and to project an output radiation beam (Bout) onto a substrate to form an image. The optical path comprises: a plurality of optical elements (M1-M4), the plurality of optical elements comprising: a first set of at least two optical elements (M1, M4) and a second set of at least one optical element (M2, M3). Each sensor is associated with one of the plurality of optical elements and is operable to determine a position of that optical element. Each actuator is associated with one of the second set of optical elements and is operable to adjust that optical element. The controller is operable to use the one or more actuators to adjust the second set of optical elements in dependence on the determined position of the first set of optical elements so as to at least partially compensate for optical aberrations and/or line-of-sight errors caused by the positions of the first set of optical elements.