LOAD LOCK SYSTEM AND METHOD FOR TRANSFERRING SUBSTRATES IN A LITHOGRAPHY SYSTEM

본 발명은 리소그래피 장치에서 진공 챔버 내로 그리고 진공 챔버로부터 기판을 이송하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 로드 로크 시스템은 로드 로크 챔버 내에서 그리고 로드 로크 챔버 외부로 기판을 통과시키는 것을 허용하기 위한 개구가 제공되는 로드 로크 챔버와, 로드 로크 챔버 내에 적어도 부분적으로 배치된 서브 프레임, 그 기단부가 서브 프레임에 연결되는 아암, 및 아암의 말단부에 연결되는 기판 수용 유닛을 포함하는 이송 장치를 포함한다. 아암은 적어도 3개의 힌지 아암 부분을 포함하고, 제1 및 제2 아암 부분은 그 기단부...

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Hauptverfasser: DANSBERG MICHEL PIETER, JONGENEEL JAN PIETER ROELOF, HESDAHL SJOERD
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 리소그래피 장치에서 진공 챔버 내로 그리고 진공 챔버로부터 기판을 이송하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 로드 로크 시스템은 로드 로크 챔버 내에서 그리고 로드 로크 챔버 외부로 기판을 통과시키는 것을 허용하기 위한 개구가 제공되는 로드 로크 챔버와, 로드 로크 챔버 내에 적어도 부분적으로 배치된 서브 프레임, 그 기단부가 서브 프레임에 연결되는 아암, 및 아암의 말단부에 연결되는 기판 수용 유닛을 포함하는 이송 장치를 포함한다. 아암은 적어도 3개의 힌지 아암 부분을 포함하고, 제1 및 제2 아암 부분은 그 기단부에 의해 서브 프레임에 힌지식으로 연결된다. 제3 아암 부분은 제1 및 제2 아암 부분의 말단부에 힌지식으로 연결된다. 아암 부분들은 4-바 링크 기구를 형성하도록 배치된다. The present invention relates to an apparatus and a method for transferring substrates into and from a vacuum chamber in a lithography apparatus. The load lock system comprises: a load lock chamber provided with an opening for allowing passage of a substrate in and out of the load lock chamber, and a transfer apparatus comprising a sub-frame at least partially arranged in the load lock chamber, an arm which is, with a proximal end thereof, connected to the sub-frame, and a substrate receiving unit which is connected to a distal end of the arm. The arm comprises at least three hinging arm parts, wherein a first and a second arm part are hingedly connected to the sub-frame with a proximal end thereof. A third arm part is hingedly connected to the distal ends of the first and second arm parts. The arm parts are arranged to form a four-bar linkage.