MULTI-MASK ALIGNMENT SYSTEM AND METHOD

다중 마스크 정렬 시스템 및 방법에서, 관통하는 다수의 어퍼처를 갖는 캐리어 프레임이 제공된다. 또한, 다수의 섀도우 마스크-프레임 조합이 제공된다. 각각의 섀도우 마스크-프레임 조합은 제1 정렬 피처(feature) 세트를 포함하고, 각각의 섀도우 마스크-프레임 조합은 프레임이 어퍼처 중 하나와 정렬되는 섀도우 마스크를 지지하면서 캐리어의 제1 측 상에 위치 설정된다. 정렬 시스템이 제공되고, 프로그래밍된 컨트롤러를 포함하는 제어 시스템이 또한 제공된다. 컨트롤러의 제어 하에서, 정렬 시스템은 컨트롤러에 의해 판단된 제1 정렬 피...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	BUCCI BRIAN ARTHUR
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	다중 마스크 정렬 시스템 및 방법에서, 관통하는 다수의 어퍼처를 갖는 캐리어 프레임이 제공된다. 또한, 다수의 섀도우 마스크-프레임 조합이 제공된다. 각각의 섀도우 마스크-프레임 조합은 제1 정렬 피처(feature) 세트를 포함하고, 각각의 섀도우 마스크-프레임 조합은 프레임이 어퍼처 중 하나와 정렬되는 섀도우 마스크를 지지하면서 캐리어의 제1 측 상에 위치 설정된다. 정렬 시스템이 제공되고, 프로그래밍된 컨트롤러를 포함하는 제어 시스템이 또한 제공된다. 컨트롤러의 제어 하에서, 정렬 시스템은 컨트롤러에 의해 판단된 제1 정렬 피처 세트의 위치에 기초하여 캐리어에 대한 각각의 섀도우 마스크-프레임 조합의 위치를 조정하게 된다. In a multi-mask alignment system and method, a carrier frame is provided having a number of apertures therethrough. A number of shadow mask-frame combinations are also provided. Each shadow mask-frame combination includes a first set of alignment features and each shadow mask-frame combination is positioned on a first side of the carrier with the frame supporting the shadow mask in alignment with one of the apertures. An alignment system is provided and a control system including a programmed controller is also provided. Under the control of the controller, the alignment system is caused to adjust the position of each shadow mask-frame combination with respect to the carrier based on positions of the first set of alignment features determined by the controller.