METHOD AND APPARATUS FOR X-RAY SCATTEROMETRY
엑스선 산란계를 위한 방법은 시료로부터 산란된 엑스선 빔의 제1 분포를 수신하는 단계를 포함한다. 상기 제1 분포는 기준축에 대해 비대칭을 나타낸다. 상기 제1 분포는 상기 제1 분포에 대해 상기 비대칭의 레벨이 감소되는 제2 분포를 산출하도록 상기 제1 분포를 보정한다. 상기 시료의 하나 이상의 파라미터는 상기 제2 분포에 기초하여 추정된다. A method for X-ray scatterometry includes receiving a first distribution of an X-ray beam scattered from a...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | 엑스선 산란계를 위한 방법은 시료로부터 산란된 엑스선 빔의 제1 분포를 수신하는 단계를 포함한다. 상기 제1 분포는 기준축에 대해 비대칭을 나타낸다. 상기 제1 분포는 상기 제1 분포에 대해 상기 비대칭의 레벨이 감소되는 제2 분포를 산출하도록 상기 제1 분포를 보정한다. 상기 시료의 하나 이상의 파라미터는 상기 제2 분포에 기초하여 추정된다.
A method for X-ray scatterometry includes receiving a first distribution of an X-ray beam scattered from a sample. The first distribution exhibits asymmetry with respect to a reference axis. A correction is applied to the first distribution, so as to produce a second distribution in which a level of the asymmetry is reduced relative to the first distribution. One or more parameters of the sample are estimated based on the second distribution. |
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