SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND ADJUSTING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

기판의 면내에 있어서나 기판 사이에 있어서나, 균일성이 양호한 가열 처리를 행할 수 있는 기술을 제공하는 것. 각각 기판을 적재대에 적재하여 가열하는 복수의 가열 모듈을 구비한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 적재대에 복수 설치되고, 서로 독립해서 발열량이 제어되는 히터와, 상기 복수의 히터 각각에 대응하는 기판의 피가열 부위에 대해, 미리 결정된 제1 시점으로부터 제2 시점에 이르기까지의 사이의 적산 열량이 1대의 적재대 중에서 균일하고, 또한 복수의 가열 모듈의 사이에서 균일하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하도록 장치를...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	FUKUDOME TAKAYUKI, ENOKIDA SUGURU, UMEKI KAZUTO, SHIGETOMI KENICHI, SEKIMOTO EIICHI, TAKESHITA KAZUHIRO, YOSHIHARA KOUSUKE, SAIKUSA TAKESHI
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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