APPARATUS AND METHOD FOR BEARING A LITHOGRAPHY MASK

레티클 스테이지(28)를 갖는 리소그래피 마스크(12)를 지지하는 장치(14)는 리소그래피 마스크(12)를 위한 레스팅 서포트 홀더(40)를 포함한다. 이를 위하여, 레스팅 서포트 홀더(40)는 리소그래피 마스크를 지지하는 지지 지점(52a-d, 54a-d)을 갖는다. 방해 진동에 관한 거동을 개선하기 위하여, 레스팅 서포트 홀더(40)는 4개의, 특히 정확히 4개의 지지 지점(52a-d, 54a-d)을 갖는다. 관련된 방법은 모든 지지 지점(52a-d, 54a-d)이 동일한 지지력을 보유할 때까지 제 4 지지 지점(52d, 54d...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	HOF ALBRECHT
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	레티클 스테이지(28)를 갖는 리소그래피 마스크(12)를 지지하는 장치(14)는 리소그래피 마스크(12)를 위한 레스팅 서포트 홀더(40)를 포함한다. 이를 위하여, 레스팅 서포트 홀더(40)는 리소그래피 마스크를 지지하는 지지 지점(52a-d, 54a-d)을 갖는다. 방해 진동에 관한 거동을 개선하기 위하여, 레스팅 서포트 홀더(40)는 4개의, 특히 정확히 4개의 지지 지점(52a-d, 54a-d)을 갖는다. 관련된 방법은 모든 지지 지점(52a-d, 54a-d)이 동일한 지지력을 보유할 때까지 제 4 지지 지점(52d, 54d)의 높이를 조절한다. An apparatus for bearing a lithography mask with a reticle stage includes a resting support holder for the lithography mask. The resting support holder has bearing points which bear the lithography mask. Optionally, the resting support holder optionally has exactly four bearing points. An associated method adjusts the height of the fourth bearing point until all bearing points bear the same supporting force.