EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE
처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이...
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| creator | YANAI SHUNSUKE KANESHIRO HIROAKI HAMAKAWA OSAMU IMAMURA HIROSHI OKAMOTO HIDEKI |
| description | 처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이행형이고, 장치 본체(11)의 상면부(11a)에 설치되어 있다. 반응기(12)는 원통형이고, 장치 본체(11) 내에 설치되고, 그 상단 개구(12i)가 상기 플라즈마 발생 장치(14)의 플라즈마 분출구(14f)를 향해서 배치되어 있다. 수분 공급부(18)는 장치 본체(11)의 입구 측에 설치되어 있다. 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽이 제 1 공간(T1)에 배치되어 있다.
An exhaust gas processing device preheats processing target exhaust gas in the presence of moisture with heat from at least either an electric heater or a heat exchanger and subsequently thermally decomposes the exhaust gas with an atmospheric pressure plasma. A device main body has a heating decomposition chamber therein. A plasma generator is installed at a top surface portion of the device main body. A reactor has a cylindrical shape and is installed within the device main body such that an upper end opening thereof is directed toward a plasma emission port of the plasma generator. A moisture supply unit is provided at an inlet side of the device main body. At least either the electric heater or the heat exchanger is disposed in a first space. |
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An exhaust gas processing device preheats processing target exhaust gas in the presence of moisture with heat from at least either an electric heater or a heat exchanger and subsequently thermally decomposes the exhaust gas with an atmospheric pressure plasma. A device main body has a heating decomposition chamber therein. A plasma generator is installed at a top surface portion of the device main body. A reactor has a cylindrical shape and is installed within the device main body such that an upper end opening thereof is directed toward a plasma emission port of the plasma generator. A moisture supply unit is provided at an inlet side of the device main body. At least either the electric heater or the heat exchanger is disposed in a first space.</description><language>eng ; kor</language><subject>BLASTING ; CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; COMBUSTION APPARATUS ; COMBUSTION PROCESSES ; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION ; CREMATION FURNACES ; HEATING ; LIGHTING ; MECHANICAL ENGINEERING ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; SEPARATION ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING ; WEAPONS</subject><creationdate>2017</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20170613&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20170065595A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,778,883,25547,76298</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20170613&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20170065595A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>YANAI SHUNSUKE</creatorcontrib><creatorcontrib>KANESHIRO HIROAKI</creatorcontrib><creatorcontrib>HAMAKAWA OSAMU</creatorcontrib><creatorcontrib>IMAMURA HIROSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OKAMOTO HIDEKI</creatorcontrib><title>EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE</title><description>처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이행형이고, 장치 본체(11)의 상면부(11a)에 설치되어 있다. 반응기(12)는 원통형이고, 장치 본체(11) 내에 설치되고, 그 상단 개구(12i)가 상기 플라즈마 발생 장치(14)의 플라즈마 분출구(14f)를 향해서 배치되어 있다. 수분 공급부(18)는 장치 본체(11)의 입구 측에 설치되어 있다. 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽이 제 1 공간(T1)에 배치되어 있다.
An exhaust gas processing device preheats processing target exhaust gas in the presence of moisture with heat from at least either an electric heater or a heat exchanger and subsequently thermally decomposes the exhaust gas with an atmospheric pressure plasma. A device main body has a heating decomposition chamber therein. A plasma generator is installed at a top surface portion of the device main body. A reactor has a cylindrical shape and is installed within the device main body such that an upper end opening thereof is directed toward a plasma emission port of the plasma generator. A moisture supply unit is provided at an inlet side of the device main body. At least either the electric heater or the heat exchanger is disposed in a first space.</description><subject>BLASTING</subject><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>COMBUSTION APPARATUS</subject><subject>COMBUSTION PROCESSES</subject><subject>CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION</subject><subject>CREMATION FURNACES</subject><subject>HEATING</subject><subject>LIGHTING</subject><subject>MECHANICAL ENGINEERING</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>SEPARATION</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><subject>WEAPONS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2017</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJB1jfBwDA0OUXB3DFYICPJ3dg0O9vRzV3BxDfN0duVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGhuYGBmamppamjsbEqQIAFiYh-g</recordid><startdate>20170613</startdate><enddate>20170613</enddate><creator>YANAI SHUNSUKE</creator><creator>KANESHIRO HIROAKI</creator><creator>HAMAKAWA OSAMU</creator><creator>IMAMURA HIROSHI</creator><creator>OKAMOTO HIDEKI</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20170613</creationdate><title>EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE</title><author>YANAI SHUNSUKE ; KANESHIRO HIROAKI ; HAMAKAWA OSAMU ; IMAMURA HIROSHI ; OKAMOTO HIDEKI</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20170065595A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2017</creationdate><topic>BLASTING</topic><topic>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</topic><topic>COMBUSTION APPARATUS</topic><topic>COMBUSTION PROCESSES</topic><topic>CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION</topic><topic>CREMATION FURNACES</topic><topic>HEATING</topic><topic>LIGHTING</topic><topic>MECHANICAL ENGINEERING</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>SEPARATION</topic><topic>THEIR RELEVANT APPARATUS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><topic>WEAPONS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>YANAI SHUNSUKE</creatorcontrib><creatorcontrib>KANESHIRO HIROAKI</creatorcontrib><creatorcontrib>HAMAKAWA OSAMU</creatorcontrib><creatorcontrib>IMAMURA HIROSHI</creatorcontrib><creatorcontrib>OKAMOTO HIDEKI</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>YANAI SHUNSUKE</au><au>KANESHIRO HIROAKI</au><au>HAMAKAWA OSAMU</au><au>IMAMURA HIROSHI</au><au>OKAMOTO HIDEKI</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE</title><date>2017-06-13</date><risdate>2017</risdate><abstract>처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이행형이고, 장치 본체(11)의 상면부(11a)에 설치되어 있다. 반응기(12)는 원통형이고, 장치 본체(11) 내에 설치되고, 그 상단 개구(12i)가 상기 플라즈마 발생 장치(14)의 플라즈마 분출구(14f)를 향해서 배치되어 있다. 수분 공급부(18)는 장치 본체(11)의 입구 측에 설치되어 있다. 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽이 제 1 공간(T1)에 배치되어 있다.
An exhaust gas processing device preheats processing target exhaust gas in the presence of moisture with heat from at least either an electric heater or a heat exchanger and subsequently thermally decomposes the exhaust gas with an atmospheric pressure plasma. A device main body has a heating decomposition chamber therein. A plasma generator is installed at a top surface portion of the device main body. A reactor has a cylindrical shape and is installed within the device main body such that an upper end opening thereof is directed toward a plasma emission port of the plasma generator. A moisture supply unit is provided at an inlet side of the device main body. At least either the electric heater or the heat exchanger is disposed in a first space.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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