EXHAUST GAS PROCESSING DEVICE
처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 처리 대상 배기 가스의 고온 분해 가스 성분을 예열함으로써, 대풍량의 처리 대상 배기 가스에 대하여 소용량의 플라즈마 발생 장치로 대응 가능하게 한 신규의 배기 가스 처리 장치를 제공하려고 하는 것이다. 배기 가스 처리 장치(10)는, 수분의 존재 하에서, 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽으로부터의 열로 처리 대상 배기 가스(F)를 예열하고, 이에 이은, 대기압 플라즈마(P)에 의해 배기 가스(F)를 열 분해한다. 장치 본체(11)는 내부가 가열 분해실(T)로 되어 있다. 플라즈마 발생 장치(14)는 비이행형이고, 장치 본체(11)의 상면부(11a)에 설치되어 있다. 반응기(12)는 원통형이고, 장치 본체(11) 내에 설치되고, 그 상단 개구(12i)가 상기 플라즈마 발생 장치(14)의 플라즈마 분출구(14f)를 향해서 배치되어 있다. 수분 공급부(18)는 장치 본체(11)의 입구 측에 설치되어 있다. 전기 히터(15) 또는 열 교환기(17)의 적어도 어느 한쪽이 제 1 공간(T1)에 배치되어 있다.
An exhaust gas processing device preheats processing target exhaust gas in the presence of moisture with heat from at least either an electric heater or a heat exchanger and subsequently thermally decomposes the exhaust gas with an atmospheric pressure plasma. A device main body has a heating decomposition chamber therein. A plasma generator is installed at a top surface portion of the device main body. A reactor has a cylindrical shape and is installed within the device main body such that an upper end opening thereof is directed toward a plasma emission port of the plasma generator. A moisture supply unit is provided at an inlet side of the device main body. At least either the electric heater or the heat exchanger is disposed in a first space. |
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