Dissolved ozone removal unit and Apparatus for treating a substrate including the unit Method for removing a dissolved ozone Method for cleaning a substrate

The present invention relates to a dissolved ozone removing unit for removing dissolved ozone in liquid, a substrate treating device including the same, a dissolved ozone removing method, and a substrate cleaning method. According to an embodiment of the present invention, the dissolved ozone removi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BANG, BYUNG SUN, YOUN, JUN HEE, KWON, KIL SUNG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a dissolved ozone removing unit for removing dissolved ozone in liquid, a substrate treating device including the same, a dissolved ozone removing method, and a substrate cleaning method. According to an embodiment of the present invention, the dissolved ozone removing method in the liquid comprises: supplying microbubbles into the liquid; and discharging the dissolved ozone to the outside of the liquid with the energy or radical ion generated as the microbubbles dissolve in the liquid. The present invention supplies the microbubbles in the liquid to remove dissolved ozone in the liquid. 본 발명은 액체 내에 용존 오존을 제거하는 용존 오존 제거 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 용존 오존 제거 방법, 기판 세정 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른, 액체 내에 용존 오존을 제거하는 방법은 상기 액체 내에 마이크로버블을 공급하고, 상기 마이크로버블이 상기 액체 내에 용해되면서 발생되는 에너지 또는 라디칼 이온으로 상기 용존 오존을 상기 액체 외부로 빠져 나가도록 제공되는 용존 오존 제거 방법을 포함한다.