METHOD OF PRODUCING POROUS METAL-CARBON MATERIALS

금속-탄소 복합재의 제조 방법이 청구된다. 본 방법은 화학식 [M(시프)]의 화학 구조를 갖는 중합체 시프 염기 전이 금속 필름 전구체를 제공하는 단계를 포함하고, 여기서 M은 니켈, 팔라듐, 플래티넘, 코발트, 구리, 철로 구성된 군에서 선택된다; 상기 마쿠쉬 화학식에서, 가교 Y는 하기 구조를 갖는다: 살렌의 경우살트멘의 경우살펜의 경우R은 H- 및 탄소-함유 치환체, 바람직하게는 CH-, CH-, CHO- 및 CHO-로 구성된 군에서 선택된다. 연료 전지, 이중층 캐패시터, 리튬-이온 및 리튬 중합체 배터리와 같은 장치에서 전...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHEPURNAYA IRINA A, KARUSHEV MIKHAIL P, KOGAN SEMYON, BELOUS SVETLANA A, LAVROVA TATYANA S, TIMONOV ALEXANDER M
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:금속-탄소 복합재의 제조 방법이 청구된다. 본 방법은 화학식 [M(시프)]의 화학 구조를 갖는 중합체 시프 염기 전이 금속 필름 전구체를 제공하는 단계를 포함하고, 여기서 M은 니켈, 팔라듐, 플래티넘, 코발트, 구리, 철로 구성된 군에서 선택된다; 상기 마쿠쉬 화학식에서, 가교 Y는 하기 구조를 갖는다: 살렌의 경우살트멘의 경우살펜의 경우R은 H- 및 탄소-함유 치환체, 바람직하게는 CH-, CH-, CHO- 및 CHO-로 구성된 군에서 선택된다. 연료 전지, 이중층 캐패시터, 리튬-이온 및 리튬 중합체 배터리와 같은 장치에서 전극 재료로 사용하기 위해 유리한 특성을 가진 다공성 금속-탄소 재료를 얻기 위해 상기 시프 염기 전이 금속을 지지체 기판 상에 침착하고, 및 필름에 이 재료를 전기중합하고, 그 다음 지지체 기판 상의 중합체성 시프 염기 전이 금속 필름을 불활성 대기 하에 노에서 가열하는 방법이 개시된다. A method for creating a metal-carbon composite. In one embodiment, the method includes the steps of providing a polymer Schiff base transition metal film complex precursor film having a chemical structure of the formula [M(Schiff)]n and a recurring unit and a transition metal selected from the group consisting of nickel, palladium, platinum, cobalt, copper, iron; Schiff is a tetradentate Schiff base ligand selected from the group consisting of Salen (residue of bis(salicylaldehyde)-ethylenediamine), Saltmen (residue of bis(salicylaldehyde)-tetramethylethylenediamine, Salphen (residue of bis-(salicylaldehyde)-o-phenylenediamine), a substituent in a Schiff base is selected from the group consisting of H-, and carbon-containing substituents, preferably CH3-, C2H5-, CH3O-, C2H5O-, and Y is a bridge in a Schiff base depositing the polymer Schiff base transition metal precursor film onto a support substrate; and heating the polymer Schiff base transition metal complex precursor film and support substrate in a furnace in an inert atmosphere.