ULTRAVIOLET SYSTEMS AND METHODS FOR IRRADIATING A SUBSTRATE
기판(26)에 조사하기 위한 UV 시스템(10)은 내부를 갖는 인클로저를 구비하는 램프헤드(16)를 포함한다. UV 전구(24)는 내부에 위치되고 RF 에너지에 의해 여기될 때 UV 에너지를 방출할 수 있다. UV 시스템(10)은 또한 RF 에너지를 생성할 수 있는 고체 상태 RF 소스(12)를 포함한다. RF 에너지는 UV 전구(24)에 전송되어, UV 전구(24)가 점등하고 램프헤드(16)의 내부로부터 UV 에너지를 방출하게 한다. A UV system for irradiating a substrate includes a lam...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 기판(26)에 조사하기 위한 UV 시스템(10)은 내부를 갖는 인클로저를 구비하는 램프헤드(16)를 포함한다. UV 전구(24)는 내부에 위치되고 RF 에너지에 의해 여기될 때 UV 에너지를 방출할 수 있다. UV 시스템(10)은 또한 RF 에너지를 생성할 수 있는 고체 상태 RF 소스(12)를 포함한다. RF 에너지는 UV 전구(24)에 전송되어, UV 전구(24)가 점등하고 램프헤드(16)의 내부로부터 UV 에너지를 방출하게 한다.
A UV system for irradiating a substrate includes a lamphead having an enclosure with an interior. A UV bulb is positioned in the interior and is capable of emitting UV energy when excited by RF energy. The UV system also includes a solid state RF source capable of generating the RF energy. The RF energy is transmitted to the UV bulb, which causes the UV bulb to ignite and emit the UV energy from the interior of the lamphead. |
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