CALIBRATING A POWER SUPPLY USING POWER SUPPLY MONITORS
프로세싱 시스템(100)은 프로세싱 시스템 내의 하나 이상의 위치에 대응되는 하나 이상의 제1 전압을 측정하기 위한 하나 이상의 전력 공급 모니터(PSM)(200)을 포함한다. 측정치는, 프로세싱 시스템이 하나 이상의 코드 루프를 실행함과 동시에 수행된다. 또한, 프로세싱 시스템은, 기준 전압과 하나 이상의 제1 전압의 비교에 기초하여 프로세싱 시스템으로 제공되는 제2 전압을 수정하기 위한 교정 로직(135, 705)을 포함한다. 기준 전압은 프로세싱 시스템에 의한 하나 이상의 코드 루프의 이전의 실행에 기초하여 결정된다. A pr...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 프로세싱 시스템(100)은 프로세싱 시스템 내의 하나 이상의 위치에 대응되는 하나 이상의 제1 전압을 측정하기 위한 하나 이상의 전력 공급 모니터(PSM)(200)을 포함한다. 측정치는, 프로세싱 시스템이 하나 이상의 코드 루프를 실행함과 동시에 수행된다. 또한, 프로세싱 시스템은, 기준 전압과 하나 이상의 제1 전압의 비교에 기초하여 프로세싱 시스템으로 제공되는 제2 전압을 수정하기 위한 교정 로직(135, 705)을 포함한다. 기준 전압은 프로세싱 시스템에 의한 하나 이상의 코드 루프의 이전의 실행에 기초하여 결정된다.
A processing system includes one or more power supply monitors (PSMs) to measure one or more first voltages corresponding to one or more locations in the processing system. The measurements are performed concurrently with the processing system executing one or more code loops. The processing system also includes calibration logic to modify a second voltage provided to the processing system based on a comparison of a reference voltage and the one or more first voltages. The reference voltage is determined based on previous execution of the one or more code loops by the processing system. |
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