Dielectric window plasma processing system comprising the window and method for fabricating semiconductor device using the system

The technical idea of the present invention provides a dielectric window capable of uniformizing the density distribution of plasma in a plasma process, a plasma processing system including the window, and a method of manufacturing a semiconductor device using the system. The dielectric window is made of a first dielectric material, comprises a first surface facing the inside of a plasma chamber and a second surface opposite the first surface. A groove for adjusting a magnetic field is formed on the second surface. 본 발명의 기술적 사상은 플라즈마 공정에의 플라즈마의 밀도 분포를 균일하게 할 수 있는 유전체 윈도우, 그 윈도우를 포함한 플라즈마 공정 시스템, 및 그 시스템을 이용한 반도체 소자 제조방법을 제공한다. 그 유전체 윈도우는 제1 유전체 물질로 형성되고, 플라즈마 챔버의 내부로 향하는 제1 면과 상기 제1 면에 반대되는 제2 면을 구비하며, 상기 제2 면에 자기장 조절용 홈이 형성된다.