ring unit having air holes and substrate processing apparatus including the same
Disclosed are a ring member and a substrate treatment device having the same. The device comprises: a wall liner; an electrostatic chuck; and the ring member. The ring member comprises: a focus ring; and a side ring. The side ring is extended from a floor to an upper portion of the ring member and e...
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| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | Disclosed are a ring member and a substrate treatment device having the same. The device comprises: a wall liner; an electrostatic chuck; and the ring member. The ring member comprises: a focus ring; and a side ring. The side ring is extended from a floor to an upper portion of the ring member and extended from the upper portion of the ring member to an outer side wall of the ring member.
본 발명은 링 부재 및 그를 포함하는 기판 처리 장치를 개시한다. 그의 장치는 월 라이너, 정전 척, 및 링 부재를 포함한다. 링 부재는 포커스 링과 사이드 링을 포함한다. 사이드 링은 상기 사이드 링은 상기 링 부재의 바닥에서부터 상기 링 부재의 상부로 연장하고, 상기 링 부재의 상부로부터 상기 링 부재의 외부 측벽으로 연장한다. |
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