ICP APPLICATION OF POWERED ELECTROSTATIC FARADAY SHIELD TO RECONDITION DIELECTRIC WINDOW IN ICP PLASMAS

Disclosed herein are various embodiments including an electrostatic chuck screen for use in a plasma processing chamber with a plurality of electrical leads. A plurality of petal groups are provided, and each petal group includes a substantially flat structure. Each petal group is electrically connected to at least one electrical lead among the electrical leads. Each petal group is insulated from any other petal group. The petal groups form a radial symmetry around a vertical axis. Each substantially flat structure includes a sector of a conductive annulus and a plurality of conductive petals connected to the sector of the conductive annulus. The at least one electrical lead is connected to substantially equal potential locations in each petal group. 복수의 전기적 리드들을 갖는 플라즈마 프로세싱 챔버 내에서 사용하기 위한 정전 척 스크린을 포함하는 다양한 실시예들이 본 명세서에 개시된다. 복수의 페탈 그룹 (petal group) 이 제공되고, 페탈 그룹 각각은 실질적으로 편평한 구조체를 포함하고, 페탈 그룹 각각은 복수의 전기적 리드들 중 적어도 하나의 전기적 리드에 전기적으로 연결되고, 페탈 그룹 각각은 임의의 다른 페탈 그룹으로부터 절연되고, 복수의 페탈 그룹들은 수직 축 둘레에 방사상 대칭을 형성한다. 실질적으로 편평한 구조체 각각은 도전성 고리 (annulus) 의 섹터 및 도전성 고리의 섹터에 각각 연결된 복수의 도전성 페탈들을 포함하고, 적어도 하나의 전기적 리드는 페탈 그룹 각각 내에서 실질적으로 동일한 전위 위치들에 연결된다.