PLASMA PROCESSING APPARATUS

The present invention provides a plasma processing apparatus having a high reliability and an improved yield rate. The plasma processing apparatus includes a processing chamber disposed in the interior of a vacuum container and of which a pressure may be reduced, a sample die disposed in the processing chamber and in which a processing target wafer is positioned on an upper surface thereof, and a means for forming plasma in the processing chamber above the sample die. The sample die includes a dielectric disk-shaped block, a metallic disk-shaped jacket disposed below the block while being spaced apart from the block by a gap, a concave part disposed at a central portion of an upper surface of the jacket and in to which a dielectric tub-shaped member disposed on a lower side of the center of the block is inserted, and a refrigerant passage disposed in the interior of the jacket such that a refrigerant flows through the interior of the refrigerant passage. The tub-shaped member and the lower surface of the block on the outside are connected such that the block and the jacket transfer heat. (과제) 신뢰성이 높고 수율이 향상된 플라즈마 처리 장치를 제공한다. (해결 수단) 진공 용기 내부에 배치된 감압 가능한 처리실과, 이 처리실 내에 배치되어 처리 대상의 웨이퍼가 상면에 놓여 유지되는 시료대와, 이 시료 대의 상방의 상기 처리실 내에 플라즈마를 형성하는 수단을 구비하고, 상기 시료대가, 유전체제의 원판 형상의 블록 및 그 하방에 간극을 두고 배치된 금속제의 원반 형상의 재킷과, 이 재킷의 상면 중앙부에 배치되어 상기 블록의 중앙 하방에 배치된 유전체제의 통 형상의 부재가 내측에 삽입되는 오목부와, 상기 재킷의 내부에 배치되어 내측을 냉매가 통류하는 냉매 유로를 구비하고, 상기 통 형상 부재 및 그 외주측의 상기 블록의 하면의 사이를 개재하여 상기 블록과 상기 재킷이 열을 전달하는 플라즈마 처리 장치.