SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD

The present invention relates to an apparatus for processing a substrate with liquid, capable of etching and cleaning a substrate for a substrate. The apparatus for processing a substrate with liquid includes: a substrate support unit which supports the substrate by separating the substrate to make a processed surface face downwardly on the upper side of a table; a rotation driving unit which drives a rotation shaft to rotate the table; and a processing liquid supply unit which supplies processing liquid with a mist state mixed with gas or processing liquid with a vapor state to a processing space between the table and the substrate. Accordingly, the atmosphere of the processing space between the substrate and the table is equalized and the processing liquid can be uniformly sprayed on the processed surface. 본 발명은 반도체용 기판을 식각 및 세정하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다. 기판 액처리 장치는, 테이블 상부에 처리면이 하부를 향하도록 기판을 이격하여 지지하는 기판 지지부; 테이블을 회전시키는 회전축을 구동하는 회전 구동부; 및 테이블과 기판 사이 처리 공간에 기체가 혼합된 미스트 상태의 처리액 또는 증기 상태의 처리액을 공급하는 처리액 공급부; 를 포함한다. 이에 의해, 기판과 테이블 사이 처리 공간의 분위기를 균일하게 하고, 처리면에 처리액을 균일하게 분사할 수 있다.