Film forming apparatus having injector
The present invention relates to an injector, a thin film forming apparatus having the injector to form a uniform thin film, and a driving method thereof. An entrance through which a substrate passes is arranged in a side wall of a chamber. A susceptor in which the substrate is placed is arranged in...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to an injector, a thin film forming apparatus having the injector to form a uniform thin film, and a driving method thereof. An entrance through which a substrate passes is arranged in a side wall of a chamber. A susceptor in which the substrate is placed is arranged inside the chamber. The injector separated from the entrance is arranged in the side wall of the chamber. An exhaust separated from the entrance and the injector is arranged in the side wall of the chamber. The injector has first and second parts. The first part is connected to a first carrier gas supply apparatus, and has a first layer outlet with the horizontal width greater than the height. The second part is connected to a first reaction gas supply apparatus on the first layer outlet, and has a second layer outlet with the horizontal width greater than the height.
인젝터, 상기 인젝터를 갖는 박막 형성 장치, 및 그 운전 방법에 관한 것이다. 챔버의 측벽에 기판이 드나드는 출입구가 배치된다. 상기 챔버의 내부에 상기 기판이 안착되는 서셉터가 배치된다. 상기 챔버의 측벽에 상기 출입구와 떨어진 인젝터가 배치된다. 상기 챔버의 측벽에 상기 출입구 및 상기 인젝터와 떨어진 배기구가 배치된다. 상기 인젝터는 제1 부분 및 제2 부분을 갖는다. 상기 제1 부분은 제1 캐리어 가스 공급 장치와 연통되며 수평 폭이 높이보다 큰 제1 층 토출구를 갖는다. 상기 제2 부분은 상기 제1 층 토출구 상에 제1 반응 가스 공급 장치와 연통되며 수평 폭이 높이보다 큰 제2 층 토출구를 갖는다. |
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