ELECTROSTATIC CHUCK FOR CONTROLLING CHUCKING AND DECHUCKING OF MASK

The present application relates to an electrostatic chuck. According to an embodiment of the present application, an electrostatic chuck comprises: a base portion formed of a metal material and including a coil; and a dielectric layer coated on one surface of the base portion. An anode or a cathode is applied to the dielectric layer of the electrostatic chuck to generate electrostatic force, so that a substrate can be attached to or detached from the dielectric layer. A voltage or current is applied to the coil of the base portion to generate a magnetic field, so that a mask can be chucked to the substrate. When the voltage or current applied to the coil of the base portion is blocked, the magnetic field is dissipated, so that the mask can be dechucked from the substrate. 본 명세서는 정전척에 관한 것으로, 본 명세서의 일 실시예에 따른 정전척은 코일을 포함하는 금속 재질의 베이스부; 및 상기 베이스부의 일면에 코팅되는 유전층(dielectric layer)을 포함하며, 상기 정전척의 상기 유전층에 양극 또는 음극을 인가함으로써 정전력을 발생시켜서 기판을 상기 유전층에 부착하거나 또는 탈착할 수 있으며, 상기 베이스부의 상기 코일에 전압 또는 전류를 인가함으로써 자기장이 발생되어 상기 마스크가 상기 기판으로 척킹되고, 상기 베이스부의 상기 코일에 인가된 전압 또는 전류가 차단되면 상기 자기장이 소멸되어 상기 마스크가 상기 기판으로부터 디척킹되는 것을 특징으로 한다.