2 SUBSTRATE CARRIER THAT CARRIES A SUBSTRATE ON EACH OF TWO BROAD SIDES OF THE SUBSTRATE CARRIER THAT FACE AWAY FROM EACH OTHER

본 발명은, 기판 캐리어 및 기판 캐리어와 상호작용하는 CVD 리액터에 관한 것이며, 상기 기판 캐리어는 CVD 또는 PCD 리액터(20) 내에, 특히 탄소 나노튜브들 또는 그래핀의 증착을 위해, 배열되도록 디자인되고, 상기 기판 캐리어는 기판(6)을 수용하기 위한 코팅될 제 1 측부 표면(2) 및 제 1 측부 표면(2)으로부터 등지는 제 2 측부 표면(3)을 갖는다. 탄소 나노튜브들을 증착하기 위한 디바이스 또는 디바이스의 부품들을 개선시키기 위해, 본 발명에 따른 제 1 측부 표면(2) 및 제 2 측부 표면(3) 각각은 기판 수용 존(4, 5)을 갖고, 기판(6) 또는 기판(6)의 섹션들은 측부 표면(2, 3)에 패스닝될 수 있는 방식으로 패스닝 엘리먼트들(14, 14', 15)이 제공된다. 본 발명은, 추가로, 기판 캐리어(1)를 갖는 CVD 리액터에 관한 것이다. A substrate carrier is configured to be arranged in a CVD or PVD reactor, in particular for the deposition of carbon nanotubes or graphene. The substrate carrier has a first broadside surface and a second broadside surface facing away from the first broad-side surface. The first broadside surface and the second broadside surface of the substrate carrier each have a substrate accommodation zone. Fastening elements are provided within each of the substrate accommodation zones to secure a substrate or sections of a substrate to one or more of the broadside surfaces. A CVD reactor is further configured to receive the substrate carrier.