DEVICE FOR DEPOSITING NANOTUBES

본 발명은 프로세스 챔버 하우징(19) 내에 배치되는 기판 지지부(1)에 의해 지지되는 기판(6) 상에, 탄소질(carbonaceous) 구조들, 예를 들어, 나노튜브들 또는 그래핀 형태의 층들을 증착시키기 위한 디바이스에 관한 것이고, 여기서, 프로세스 가스는 프로세싱 챔버 하우징(19) 내에 배치된 가스 유입 엘리먼트(24, 25)의 가스 배출 개구들(39)을 통해, 적어도 하나의 기판(6)으로의 방향으로 공급될 수 있다. 본 발명에 따른 기능적으로 유리한 수정으로서, 프로세스 챔버 하우징(19)은 홀딩 리세스들(holding...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	RIPPINGTON DAVID ERIC, JOUVRAY ALEXANDRE, RUPESINGHE NALIN L, TEO KENNETH B. K
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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