Reaction cavity and plasma processing apparatus

본 발명은 반응 캐비티와 플라즈마 공정 장치에 관한 것이다. 반응 캐비티와 플라즈마 공정 장치는 캐비티 바디, 유전체 창, 및 전력 공급 유닛을 포함하고, 상기 유전체 창은 상기 캐비티 바디 위에 제공되면서 상기 캐비티 바디에 밀봉되게 연결되고, 유전체 창의 외측면에 유전체 창을 둘러싸면서 수직 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 코일들이 제공되고, 전력 공급 유닛은 복수의 코일들에 전력을 공급한다. 반응 캐비티와 플라즈마 공정 장치에서, 플라즈마는 반응 캐비티 내에서 균일하게 분포되고, 증가된 밀도를 가질 수 있다. 그 때문에, 공정의 효율과 균일성을 향상시킬 수 있다. 한편, 플라즈마를 여기하기 위한 유효 전력이 향상될 수 있고, 유전체 창의 수명을 연장하면서 유전체 창이 파손되는 것을 방지하기 위해, 공정 중에 유전체 창의 온도 상승과 온도 구배가 낮아질 수 있다. . A reaction chamber is provided. The reaction chamber includes a chamber body, a dielectric window, and a power supplier. The dielectric window is provided on top of the chamber body along a first direction and hermetically connected with the chamber body. Each coil of a plurality of sets of coils is wound around an outer surface of the dielectric window at an interval along the first direction. The plurality of sets of coils are connected in parallel, with first ends electrically coupled to the power supplier for supplying power to each set of the plurality of sets of coils, and with second ends grounded. The second ends of the plurality of sets of coils are arranged in proximity between the first ends.