SUBASSEMBLY OF AN OPTICAL SYSTEM IN PARTICULAR IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 내의 광학 시스템의 서브조립체에 관한 것으로서, 요소(10, 20, 30, 40, 50, 60, 70) 및 이 요소의 온도를 제어하기 위한 적어도 하나의 온도-제어 디바이스를 갖고, 이 온도-제어 디바이스는 적어도 하나의 튜브형 부분을 갖는 폐쇄 회로에 냉각 매체를 갖고, 이 냉각 매체는 2상 전이를 수행하면서 튜브형 부분 내의 요소로부터 이격하여 또는 요소로 운반 가능하고, 가열 디바이스(15, 25)가 냉각 매체를 가열함으로써 냉각 매체의 운반을 중단하기 위해 제공된다. The...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	FIGUEREDO STACY, SCHWERTNER TILMAN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BLASTING CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HEAT EXCHANGE IN GENERAL HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS,IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT HEATING HOLOGRAPHY LIGHTING MATERIALS THEREFOR MECHANICAL ENGINEERING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 내의 광학 시스템의 서브조립체에 관한 것으로서, 요소(10, 20, 30, 40, 50, 60, 70) 및 이 요소의 온도를 제어하기 위한 적어도 하나의 온도-제어 디바이스를 갖고, 이 온도-제어 디바이스는 적어도 하나의 튜브형 부분을 갖는 폐쇄 회로에 냉각 매체를 갖고, 이 냉각 매체는 2상 전이를 수행하면서 튜브형 부분 내의 요소로부터 이격하여 또는 요소로 운반 가능하고, 가열 디바이스(15, 25)가 냉각 매체를 가열함으로써 냉각 매체의 운반을 중단하기 위해 제공된다. The disclosure provides a subassembly of an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus, with an element and at least one temperature-controlling device for controlling the temperature of this element. The temperature-controlling device has a cooling medium in a closed circuit with at least one tube-like portion. The cooling medium is transportable away from the element or to the element in the tube-like portion while performing a two-phase transition. A heating device is provided for interrupting the transport of the cooling medium by heating up the cooling medium.