PHOTOCURABLE COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR A MOLDED BODY HAVING A FINE PATTERN ON THE SURFACE

이형성 및 고굴절률의 양방을 겸비한 경화물을 얻을 수 있는 광경화성 조성물, 및 몰드의 반전 패턴이 정밀하게 전사된 미세 패턴을 표면에 갖는 고굴절률의 성형체를 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 경화 전의 파장 589 ㎚ 에 있어서의 굴절률이 1.55 이상인 화합물이고, 또한 (메트)아크릴로일옥시기를 2 개 이상 갖는 화합물 (A) 61 ∼ 90 질량％ 와, 불소 원자를 갖고, 또한 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 1 개 이상 갖는 화합물 (B) (단, 화합물 (A) 를 제외한다) 2 ∼ 15 질량％ 와, (메트)아크릴로일옥시기를 1...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	KAWAGUCHI YASUHIDE
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES METALLURGY NANOTECHNOLOGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR SHAPING OR JOINING OF PLASTICS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP TRANSPORTING USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS WORKING OF PLASTICS WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	이형성 및 고굴절률의 양방을 겸비한 경화물을 얻을 수 있는 광경화성 조성물, 및 몰드의 반전 패턴이 정밀하게 전사된 미세 패턴을 표면에 갖는 고굴절률의 성형체를 제조할 수 있는 방법을 제공한다. 경화 전의 파장 589 ㎚ 에 있어서의 굴절률이 1.55 이상인 화합물이고, 또한 (메트)아크릴로일옥시기를 2 개 이상 갖는 화합물 (A) 61 ∼ 90 질량％ 와, 불소 원자를 갖고, 또한 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 1 개 이상 갖는 화합물 (B) (단, 화합물 (A) 를 제외한다) 2 ∼ 15 질량％ 와, (메트)아크릴로일옥시기를 1 개 갖는 화합물 (C) (단, 화합물 (B) 를 제외한다) 5 ∼ 35 질량％ 와, 광중합 개시제 (D) 1 ∼ 12 질량％ 를 함유하는 (단, (A) ＋ (B) ＋ (C) ＋ (D) = 100 질량％ 이다) 광경화성 조성물.