YIELD ESTIMATION AND CONTROL
리소그래피 장치에 의해 처리되는 생산 기판들을 수반하는 디바이스 제조 공정을 위한 컴퓨터-구현 결함 예측 방법이 개시되며, 상기 방법은 디바이스 제조 공정에 의해 처리되는 생산 기판들과 연계된 공정 파라미터의 측정된 또는 결정된 값들, 및 공정 파라미터의 값들 하에 디바이스 제조 공정에서 처리되는 생산 기판들과 연계된 결함들의 존재에 관한 표시를 포함하는 트레이닝 세트를 이용하여 분류 모델을 트레이닝하는 단계, 및 기판에 대한 결함의 예측을 나타내는 분류 모델로부터의 출력을 생성하는 단계를 포함한다. A defect predicti...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 리소그래피 장치에 의해 처리되는 생산 기판들을 수반하는 디바이스 제조 공정을 위한 컴퓨터-구현 결함 예측 방법이 개시되며, 상기 방법은 디바이스 제조 공정에 의해 처리되는 생산 기판들과 연계된 공정 파라미터의 측정된 또는 결정된 값들, 및 공정 파라미터의 값들 하에 디바이스 제조 공정에서 처리되는 생산 기판들과 연계된 결함들의 존재에 관한 표시를 포함하는 트레이닝 세트를 이용하여 분류 모델을 트레이닝하는 단계, 및 기판에 대한 결함의 예측을 나타내는 분류 모델로부터의 출력을 생성하는 단계를 포함한다.
A defect prediction method for a device manufacturing process involving production substrates processed by a lithographic apparatus, the method including training a classification model using a training set including measured or determined values of a process parameter associated with the production substrates processed by the device manufacturing process and an indication regarding existence of defects associated with the production substrates processed in the device manufacturing process under the values of the process parameter, and producing an output from the classification model that indicates a prediction of a defect for a substrate. |
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