INSPECTION METHOD AND APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

하나 이상의 제품 피처들이 리소그래피 공정을 이용하여 형성된 기판의 이미지 특성을 보정하는 방법 및 연계된 검사 장치 방법이 개시된다. 상기 방법은, 상기 기판의 상기 이미지 특성의 오차를 측정하는 단계; 및 상기 제품 피처(들) 중 하나 이상의 특성 및 측정된 오차에 기초하여 상기 제품 피처들의 후속 형성에 대한 보정들을 결정하는 단계를 포함한다. A method of correcting an image characteristic of a substrate onto which one or more product features h...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	RHE KYU KAB, DECKERS DAVID, THEEUWES THOMAS, SIMONS HUBERTUS JOHANNES GERTRUDUS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	하나 이상의 제품 피처들이 리소그래피 공정을 이용하여 형성된 기판의 이미지 특성을 보정하는 방법 및 연계된 검사 장치 방법이 개시된다. 상기 방법은, 상기 기판의 상기 이미지 특성의 오차를 측정하는 단계; 및 상기 제품 피처(들) 중 하나 이상의 특성 및 측정된 오차에 기초하여 상기 제품 피처들의 후속 형성에 대한 보정들을 결정하는 단계를 포함한다. A method of correcting an image characteristic of a substrate onto which one or more product features have been formed using a lithographic process, and an associated inspection apparatus method. The method includes measuring an error in the image characteristic of the substrate, and determining a correction for a subsequent formation of the product features based upon the measured error and a characteristic of one or more of the product feature(s).