APPARATUS FOR SUPPLYING PLASMA POWER

The present invention relates to an apparatus for supplying plasma power. The apparatus for supplying the plasma power, for distributing and supplying the plasma power to each of reaction spaces of a substrate processing device having a plurality of reaction spaces, includes: a plasma power supply unit for generating power to generate plasma; a distribution circuit unit for receiving plasma power generated from the plasma power supply unit and for distributing and outputting the plasma power to correspond to the number of the reaction spaces; an impedance matching device for impedance-matching a plurality of distribution power outputted from the distribution circuit unit to correspond to each of the reaction spaces and outputting the plasma matching power; and a control unit for controlling the plasma matching power supplied to each of the reaction spaces from the impedance matching device, wherein the plurality of reaction spaces are individually power-controlled by using one plasma power supply unit. 본 발명은 플라즈마 전력 공급장치에 관한 것으로서, 복수의 반응공간을 가지는 기판처리장치의 반응공간 각각에 플라즈마 전력을 분배 공급하기 위한 플라즈마 전력 공급 장치에 있어서, 플라즈마를 발생시키기 위한 전력을 생성하는 플라즈마 전원 공급부; 상기 플라즈마 전원 공급부에서 생성된 플라즈마 전력을 공급받아 상기 반응공간의 개수에 대응하도록 분배 출력하는 분배 회로부; 상기 분배회로부에서 출력되는 복수의 분배 전력을 상기 각각의 반응공간에 대응하도록 임피던스 매칭하여 플라즈마 매칭 전력을 출력하는 임피던스 정합기; 및 상기 임피던스 정합기에서 상기 각각의 반응공간으로 공급되는 플라즈마 매칭 전력을 조절하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하고, 하나의 플라즈마 전원 공급부를 이용하여 복수의 반응 공간을 각각 개별적으로 전력 제어를 할 수 있다.