PROCESS AND DEVICE FOR FORMING SECONDARY-CELL GAS VENTING HOLE

축전 요소를 수납 장착한 케이싱에 가스 배출 구멍을 형성한다. 가스 배출 구멍의 형성에 앞서, 가스 배출 구멍을 형성하는 케이싱의 주연과 축전 요소 사이에서 케이싱을 끼움 지지하고, 필름 접합 방향의 끼움 지지력을 케이싱에 미친다. 끼움 지지력의 작용 위치를 축전 요소를 향하는 방향으로 변화시킴과 함께, 끼움 지지력의 작용 위치가 축전 요소에 가까워짐에 따라 끼움 지지력을 저하시킴으로써, 케이싱으로부터의 가스 배출 시의 누액을 방지한다. A degassing hole is formed in a casing in which a sto...

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Hauptverfasser: KATO YUZO, AKUTSU NOBUAKI
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:축전 요소를 수납 장착한 케이싱에 가스 배출 구멍을 형성한다. 가스 배출 구멍의 형성에 앞서, 가스 배출 구멍을 형성하는 케이싱의 주연과 축전 요소 사이에서 케이싱을 끼움 지지하고, 필름 접합 방향의 끼움 지지력을 케이싱에 미친다. 끼움 지지력의 작용 위치를 축전 요소를 향하는 방향으로 변화시킴과 함께, 끼움 지지력의 작용 위치가 축전 요소에 가까워짐에 따라 끼움 지지력을 저하시킴으로써, 케이싱으로부터의 가스 배출 시의 누액을 방지한다. A degassing hole is formed in a casing in which a storage element is housed. Prior to forming the degassing hole, the casing is clamped in a region between the outer peripheral edge of the casing and the strage element where the degassing hole is to be formed such that overlapped films of the casing are pressed tightly together. By displacing the acting position of the clamping force toward the storage element while reducing the clamping force gradually toward the storage element prevent, liquid spill in a degassing process is prevented.