OBJECT POSITIONING IN LITHOGRAPHY

대상물 위치설정 시스템은, 대상물(P); 대상물의 위치(APOS)를 측정하는 측정 시스템(MS); 대상물을 위치설정하는 액추에이터 시스템(AS); 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 제어 시스템(CU, OBS)을 포함하고, 측정 시스템의 각각의 센서는 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 대상물의 위치에 의존적이며, 제어 시스템(CU, OBS)은 대상물의 내부 동적 거동(IDB)을 추산(estimate)하기 위해 대상물의 동적 모델을 갖는 관측기(OBS)를 포함하고, 동적 모델은...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BUTLER HANS, KAMIDI RAMIDIN IZAIR, KASEMSINSUP YANIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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