PROJECTION SYSTEM WITH METROLOGY

본 발명의 실시예에 따른 기계적으로 디커플링된 계측 플레이트를 구비한 프로젝션 시스템 및 방법은 열적, 기계적 효과로 인한 생성 이미지의 오정렬 및 수차를 특징짓고 보상하는데 사용될 수 있다. 계측 플레이트상의 센서는 생성 이미지로 기판의 노광 중 이미지와 기판에 대한 계측 플레이트의 위치를 측정한다. 센서로부터의 데이터는 정렬 오류 및 수차-유도 오류를 수정 또는 보상하도록 프로젝션 광학계 및/또는 기판을 역학적으로 조절하는데 사용된다. 종래의 시스템 및 방법과 비교했을 때, 본원에 기술한 프로젝션 시스템 및 방법은 더 큰 설계...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DONAHER J. CASEY, MCCLEARY ROGER, SIMPSON CRAIG R
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ACCESSORIES THEREFOR APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USINGWAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FORPROJECTING OR VIEWING THEM APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 실시예에 따른 기계적으로 디커플링된 계측 플레이트를 구비한 프로젝션 시스템 및 방법은 열적, 기계적 효과로 인한 생성 이미지의 오정렬 및 수차를 특징짓고 보상하는데 사용될 수 있다. 계측 플레이트상의 센서는 생성 이미지로 기판의 노광 중 이미지와 기판에 대한 계측 플레이트의 위치를 측정한다. 센서로부터의 데이터는 정렬 오류 및 수차-유도 오류를 수정 또는 보상하도록 프로젝션 광학계 및/또는 기판을 역학적으로 조절하는데 사용된다. 종래의 시스템 및 방법과 비교했을 때, 본원에 기술한 프로젝션 시스템 및 방법은 더 큰 설계 유연성 및 기계적 안정성과 열적으로 유도된 팽창에 대해 완화된 제약을 제공한다. 게다가, 디커플링된 계측 플레이트는 2개 이상의 대물렌즈를 동시에 그리고 독립적으로 정렬하는데 사용될 수 있다.