VERTICAL TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS

The present invention relates to an apparatus for uniformly heating multiple stacked substrates. The apparatus comprises: a chamber which has a process chamber housing in which supply and discharge of gas is performed; a boat in which multiple substrates are stacked to be separated up and down in the process chamber housing; a lifting member which lifts and lowers the boat; an opening and closing member which opens and closes the lower portion of the process chamber housing thereby; a rotation shaft which rotates the boat by penetrating the lower portion thereof; an outer heater which is provided on the outside of the process chamber housing; and a lower heater which is provided at the circumference of the rotation shaft positioned between the lower portion of the boat and the opening and closing member. Accordingly, it is possible to uniformly heat the substrate by compensating the temperature of the lower area of the board by the lower heater while minimizing the volume of the chamber. 본 발명은 복수의 적층된 기판을 균일하게 가열하기 위한 장치로서, 내부에서 가스의 공급과 배출이 이루어지는 공정 챔버 하우징을 구비하는 챔버; 공정 챔버 하우징 내부에 복수의 기판이 상하로 이격 적층되는 보트; 이를 승하강시키는 승강부재; 이에 의해 공정 챔버 하우징 하부를 개폐시키는 개폐부재; 그 하부를 관통하여 보트를 회전시키는 회전축; 공정 챔버 하우징 외곽에 구비된 외곽 히터; 및 보트 하부와 개폐부재 사이에 위치한 회전축 둘레에 구비된 하부 히터로 이루어진다. 이로부터 챔버의 용적을 최소화 하면서도 하부 히터에 의해 보트 하부 영역의 온도를 보상하여 기판을 균일하게 가열할 수 있다.