MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE HAVING LYOPHILIC PORTION AND LYOPHOBIC PORTION, COMPOSITION, FORMING METHOD FOR CONDUCTIVE FILM, ELECTRONIC CIRCUIT AND ELECTRONIC DEVICE

The present invention provides a method for manufacturing a substrate having a lyophilic portion and a lyophobic portion, in which a liquid film forming material is used to form a fixed fine pattern by suppressing moisture from spreading and infiltrating, a composition used in the manufacture of the substrate, a method for forming a conductive film, an electronic circuit, and an electronic device. The method for manufacturing a substrate having a lyophilic portion and a lyophobic portion comprises the processes of: (1) forming a coating film by applying, on a substrate, a composition including (A) a polymer having at least one group selected from a group having an acetal bond or a group having silicon atoms, (B) an acid generator, and (C) a compound different from (A); and (2) irradiating a certain portion of the coating film. The method for forming a conductive film comprises applying a film forming material for formation of a conductive film onto a lyophilic portion formed in the irradiated portion of the coating film on the substrate (1) after the process (2) and heating the film forming material. Using the method for a conductive film, an electronic circuit and an electronic device may be provided. (과제) 액상의 막 형성 재료가 습윤 확산, 침투를 억제하여 고정세한 패턴을 형성하는 데에 이용되는 친액부와 발액부를 갖는 기재의 제조 방법을 제공하고, 그 기재의 제조에 이용하는 조성물을 제공하고, 도전막의 형성 방법, 전자 회로 및 전자 디바이스를 제공한다. (해결 수단) 친액부와 발액부를 갖는 기재의 제조 방법은 기판 상에, (1) (A) 아세탈 결합을 갖는 기 또는 규소 원자를 포함하는 기로부터 선택되는 적어도 1개의 기를 갖는 중합체, (B) 산 발생제, (C) (A)와는 상이한 화합물을 포함하는 조성물을 도포하여, 도막을 형성하는 공정, (2) 상기 도막의 소정 부분에 방사선 조사를 행하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 달성된다. 도전막 형성 방법은, 공정 (2)의 후, 기판(1) 상의 도막의 방사선 조사부에 형성된 친액부에 도전막 형성용의 막 형성 재료를 도포하고, 가열함으로써 달성된다. 도전막의 형성 방법을 이용하여 전자 회로 및 전자 디바이스를 제공한다.