SPECKLE PATTERNING DEVICE FOR MEASURING STRAIN USING IMAGE ANALYSIS AND METHOD FOR MEASURING STRAIN USING THE SAME
A speckle pattern generating device for measuring image analysis strain and a strain measuring method using the same are disclosed. The speckle pattern generating device comprises: a first mask including a plurality of first penetration type holes; and a second mask attached/detached to/from a lower...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | A speckle pattern generating device for measuring image analysis strain and a strain measuring method using the same are disclosed. The speckle pattern generating device comprises: a first mask including a plurality of first penetration type holes; and a second mask attached/detached to/from a lower surface of the first mask and including a plurality of second penetration type holes. Diameters of the first and second penetration type holes are decreased from upper surfaces toward lower surfaces of the masks. Diameters of lower surfaces of the first penetration type holes are larger than diameters of lower surfaces of the second penetration type holes.
영상 분석 스트레인 측정을 위한 스패클 패턴 생성 장치 및 이를 이용한 스트레인 측정 방법이 개시된다. 개시된 스패클 패턴 생성 장치는 복수의 제1관통형 홀을 포함하는 제1마스크; 및 상기 제1마스크의 하부면에 착탈되며, 복수의 제2관통형 홀을 포함하는 제2마스크를 포함하며, 상기 제1 및 제2관통형 홀은 마스크의 상부면에서 하부면 방향으로 지름이 감소하는 형상이며, 상기 제1관통형 홀의 하부면 지름은 상기 제2관통형 홀의 하부면 지름보다 크다. |
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