HYDROPHOBIC PROCESSING METHOD, HYDROPHOBIC PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM THEREFOR

The present invention provides a hydrogenation treatment method, a hydrogenation treatment apparatus, and a recording medium, capable of stably and fully assigning a hydrogenation degree expected in accordance with a heat treatment temperature of a substrate to the substrate. The hydrogenation treatment method is for hydrogenation of a surface of the substrate. To this end, the hydrogenation treatment method includes the following processes: (A) supplying a process gas for hydrogenation on the surface of the substrate; (B) exposing the surface of the substrate to an atmosphere including the process gas over a preset period of time; and (C) heating the substrate under the existence of the process gas after the process (B). 기판의 열처리 온도에 따라 기대되는 소수화도를 기판에 대하여 충분히 안정적으로 부여할 수 있는 소수화 처리 방법, 수소화 처리 장치 및 기록 매체를 제공 한다. 본 발명에 따른 소수화 처리 방법은, 기판의 표면을 소수화하기 위한 것이며, (A) 기판의 표면에 소수화를 위한 처리 가스를 공급하는 공정과, (B) 처리 가스를 포함하는 분위기에 기판의 표면을 정해진 시간에 걸쳐 노출하는 공정과, (C) 상기 (B) 공정 후, 처리 가스의 존재하에, 기판을 가열하는 공정을 구비한다.