SYSTEMS AND METHODS FOR VAPOR DELIVERY

A vapor delivery system comprises an ampoule for storing a liquid precursor, and a heater partially gasifying the liquid precursor. A first valve is connected to a push gas source and the ampoule. A second valve supplies a gasified precursor to a heated injection manifold. A valve manifold comprises...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LANDIS HEATHER, DUVALL ANDREW KENICHI, CHANDRASEKHARAN RAMESH, HA, JEONG SEOK, KANG HU, KUMAR PURUSHOTTAM, BALDASSERONI CHLOE, PASQUALE FRANK, SABRI MOHAMED, LEESER KARL, RANGANATHAN EASHWAR, BAE, IN GI, SMITH DAVID, SWAMINATHAN SHANKAR, LAVOIE ADRIEN, QIAN JUN, BALDWIN JEREMIAH
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A vapor delivery system comprises an ampoule for storing a liquid precursor, and a heater partially gasifying the liquid precursor. A first valve is connected to a push gas source and the ampoule. A second valve supplies a gasified precursor to a heated injection manifold. A valve manifold comprises: a first node connected to a discharge part of the heated injection manifold in a fluidic manner; a third valve having an inlet connected to the first node in a fluidic manner, and an outlet connected to vacuum in a fluidic manner; a fourth valve having an inlet part connected to the first node in a fluidic manner, and an outlet connected to a second node in a fluidic manner; a fifth valve having an outlet connected to the second node in a fluidic manner; and a sixth valve having an outlet connected to the second node in a fluidic manner. A gas distribution device is connected to the second node in a fluidic manner. 증기 전달 시스템은 액체 전구체를 저장하기 위한 앰플 및 액체 전구체를 부분적으로 기화하기 위한 히터를 포함한다. 제 1 밸브는 푸시 가스 소스 및 앰플과 연통한다. 제 2 밸브는 가열된 주입 매니폴드에 기화된 전구체를 공급한다. 밸브 매니폴드는 가열된 주입 매니폴드의 유출부와 유체 연통하는 제 1 노드, 제 1 노드와 유체 연통하는 유입부 및 진공과 유체 연통하는 유출부를 갖는 제 3 밸브, 제 1 노드와 유체 연통하는 유입부 및 제 2 노드와 유체 연통하는 유출부를 갖는 제 4 밸브, 제 2 노드와 유체 연통하는 유출부를 갖는 제 5 밸브 및 제 2 노드와 유체 연통하는 유출부를 갖는 제 6 밸브를 포함한다. 가스 분배 디바이스는 제 2 노드와 유체 연통한다.