CATHODE UNIT

이 캐소드 유닛(220)은, 성막 장치(200)에 이용되며, 제1 주면(204a), 제2 주면(204b), 제1 측면(211) 및 제2 측면(212)을 가진 백킹 플레이트(204)와, 제1 모재(205)와, 제2 모재(206)와, 회전축(207)을 가지며, 복수의 회전축(207)은 서로 평행하게 나열되도록 동일면내에 배치되어 있으며, 성막 공간(50) 내에 마련된 복수의 타겟(C1,C2,C3)과, 상기 회전축(207)을 회전시키며, 상기 타겟(C1,C2,C3)에 스퍼터링에 이용되는 전압을 인가하는 복수의 제어부(E1,E2,E3)와,...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OHNO TETSUHIRO, SATO SHIGEMITSU, OOZORA HIROKI
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	이 캐소드 유닛(220)은, 성막 장치(200)에 이용되며, 제1 주면(204a), 제2 주면(204b), 제1 측면(211) 및 제2 측면(212)을 가진 백킹 플레이트(204)와, 제1 모재(205)와, 제2 모재(206)와, 회전축(207)을 가지며, 복수의 회전축(207)은 서로 평행하게 나열되도록 동일면내에 배치되어 있으며, 성막 공간(50) 내에 마련된 복수의 타겟(C1,C2,C3)과, 상기 회전축(207)을 회전시키며, 상기 타겟(C1,C2,C3)에 스퍼터링에 이용되는 전압을 인가하는 복수의 제어부(E1,E2,E3)와, 상기 성막 공간(50)에 가까운 상기 백킹 플레이트(204)의 면에 특정 분포 자장이 생성되도록 상기 성막 공간(50)으로부터 떨어진 상기 백킹 플레이트(204)의 면에 가까운 위치에 마련된 복수의 자장 생성부(H1,H2,H3)를 포함한다.