SURFACE TREATMENTS FOR LOW ELECTROSTATIC DISCHARGE FUSION DRAWN GLASS

유리 시트의 정전기 방전 특성을 향상시키는 방법은 평균 표면 거칠기를 증가시키는 처리액으로 상기 유리 시트의 적어도 일 면을 처리하는 단계, 및 상기 처리액을 제거하는 단계를 포함한다. 상기 유리 시트의 적어도 하나의 처리된 면의 평균 표면 거칠기는 약 0.3㎚ 내지 약 100㎚일 수 있다. 상기 처리 전의 유리 시트와 처리 이후의 유리 시트 사이의 전압 감소 백분율 (percent reduction in voltage)은 약 1.5% 내지 약 40%일 수 있다. 유리 시트는 약 0.3㎚ 내지 약 100㎚의 평균 표면 거칠기를 갖는...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KIANG KAI MING, WALCZAK WANDA JANINA, MIS JONATHAN MICHAEL, GU YUNFENG, SMITH NICHOLAS JAMES, STEMPIN LOUIS JOSEPH JR
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS CHEMISTRY GLASS JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS METALLURGY MINERAL OR SLAG WOOL SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS SURFACE TREATMENT OF GLASS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	유리 시트의 정전기 방전 특성을 향상시키는 방법은 평균 표면 거칠기를 증가시키는 처리액으로 상기 유리 시트의 적어도 일 면을 처리하는 단계, 및 상기 처리액을 제거하는 단계를 포함한다. 상기 유리 시트의 적어도 하나의 처리된 면의 평균 표면 거칠기는 약 0.3㎚ 내지 약 100㎚일 수 있다. 상기 처리 전의 유리 시트와 처리 이후의 유리 시트 사이의 전압 감소 백분율 (percent reduction in voltage)은 약 1.5% 내지 약 40%일 수 있다. 유리 시트는 약 0.3㎚ 내지 약 100㎚의 평균 표면 거칠기를 갖는 제1 면, 및 약 0.1㎚ 내지 약 100㎚의 평균 표면 거칠기를 갖는 제2 면을 갖는다. 상기 유리 시트는 적어도 약 100㎜의 길이, 및 약 1.0㎜ 미만의 두께를 가질 수 있다.