CONTINUOUS MASK PROCESSING APPARATUS CAPABLE OF REUSING RINSE SOLUTION

The present invention relates to a continuous type mask processing apparatus capable of reusing a rinse solution and, more particularly, to a continuous type mask processing apparatus capable of reusing a rinse solution used in a washing process, and in which a deposition process performed on a mask having a substrate attached thereon, and a washing process performed on the mask having the substrate detached therefrom after the deposition process is completed, are configured to be performed in one continuous process. Accordingly, the productivity can be improved by reducing a process time, and minimizing the number of masks used for the process can be maintained. Also, deposition and cleaning devices are separately equipped, thereby effectively reducing a contamination possibility caused by an external contamination source which may be generated when the mask is supplied to the deposition device again after washing the same through the cleaning device. Furthermore, the rinse solution is individually sprayed to upper and lower surfaces of the mask, and angles that the rinse solution is sprayed is controlled, so more effective rinse process is possible. A cooling system is applied, so the rinse solution, which is highly expensive, can be effectively reused. 본 발명은 린스액의 재사용이 가능한 연속식 마스크 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 기판이 부착된 마스크 상에서 수행되는 증착 공정과 증착 공정이 완료되어 기판이 탈착된 마스크 상에서 수행되는 세정 공정이 하나의 연속적인 공정 내에서 수행될 수 있도록 구성되고, 상기 세정 공정에서 사용되는 린스액의 재사용이 가능한 연속식 마스크 처리 장치에 관한 것이다. 이에 따라, 공정 시간을 줄여 생산성을 향상시킬 수 있으며, 공정에 사용되는 마스크의 수량을 최소한으로 유지하는 것이 가능하다. 또한, 증착 장치와 세정 장치가 별도로 구비됨으로써 세정 장치를 통해 마스크를 세정한 후 이를 다시 증착 장치로 공급할 때 발생할 수 있는 외부 오염원에 의한 오염 가능성을 효과적으로 저감할 수 있다. 또한, 마스크의 상부 및 하부 표면에 각각 린스액을 분사하고, 상기 린스액이 분사되는 각도를 조절함으로써 보다 효과적인 린스 공정이 가능하며, 냉각 시스템이 적용됨으로써 고가의 린스액을 효율적으로 재사용하는 것이 가능하다.