MEASUREMENT APPARATUS, LITHOGRAPHY APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE

The present invention provides a measurement apparatus which includes an operating stage, and measures a position of a mark on the stage. The measurement apparatus includes: a photographing device including multiple pixels, having a pitch, and configured to photograph a mark; an operating device configured to change a relative position between the stage and the photographing device; a measurement device configured to measure the relative position; and a processing part obtaining a position of the mark based on multiple pixels, separately obtained by the photographing device from multiple relative positions, related with the pitch and different from each other, between the photographing device and the stage. The processing part is configured to obtain a target relative position about another relative position among multiple relative positions based on a variation in one relative position among the relative positions. 본 발명은 가동 스테이지를 포함하고 스테이지 상의 마크의 위치를 계측하는 계측 장치를 제공하고, 이 장치는 피치를 갖고 배열된 복수의 화소를 포함하며 마크를 촬상하도록 구성된 촬상 디바이스, 스테이지와 촬상 디바이스 사이의 상대 위치를 변경하도록 구성된 구동 디바이스, 상대 위치를 계측하도록 구성된 계측 디바이스, 및 스테이지와 촬상 디바이스 사이의, 서로 상이하며 피치와 연관된 복수의 상대 위치에서 촬상 디바이스에 의해 각각 획득된 복수의 화상에 기초하여 마크의 위치를 획득하도록 구성된 처리부를 포함하고, 처리부는, 복수의 상대 위치 중 하나의 상대 위치에 관한 편차에 기초하여, 복수의 상대 위치 중 다른 상대 위치에 관한 목표 상대 위치를 획득하도록 구성된다.